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CVD法 氧化硅基底單層石墨烯薄膜
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---|---|---|---|---|
R-AB-494 | 1 | ¥ 1 | 加入購物車 |
結構式
外觀 | N/A |
分子量 | N/A |
溶解度 | N/A |
CAS號 | N/A |
質量控制 | N/A |
儲存條件 | N/A |
保存時間 | N/A |
其他信息 | 價格1,就是價格現詢 |
產品名稱:CVD法 氧化硅基底單層石墨烯薄膜
產品性質
薄膜顏色:無色透明
產品牌號: JCGRFSIO
方阻:單層A 300-600 Ω/□ 單層B 700-1500 Ω/□ 少層 500-1200Ω/□
石墨烯薄膜的層數為單層或少層(小于10層)。該薄膜完整性高,單層覆蓋率高,導電性好,遷移率可達~6000cm2/vs。
石墨烯轉移至氧化硅片上,客戶也可以自己提供氧化硅片,我們轉移。
氧化硅參數:
類型:P型重摻雜(R:3×10-3Ωcm)
厚度:525±20μm
氧化層厚度:300nm
最大可做 7cm*7cm(可內接4英寸氧化硅基底或滿轉)
本產品應密封保存于干燥環(huán)境中,且溫度低于35℃。嚴禁與易揮發(fā)物質和污染源接觸。遠離火源。
備注:A級單層覆蓋率大于97% ,B級單層覆蓋率大于85%,少層石墨烯厚度在10 層以內,可提供定制服務
西安瑞禧生物科技有限公司提供多種科研試劑材料。
產品性質
薄膜顏色:無色透明
產品牌號: JCGRFSIO
方阻:單層A 300-600 Ω/□ 單層B 700-1500 Ω/□ 少層 500-1200Ω/□
石墨烯薄膜的層數為單層或少層(小于10層)。該薄膜完整性高,單層覆蓋率高,導電性好,遷移率可達~6000cm2/vs。
石墨烯轉移至氧化硅片上,客戶也可以自己提供氧化硅片,我們轉移。
氧化硅參數:
類型:P型重摻雜(R:3×10-3Ωcm)
厚度:525±20μm
氧化層厚度:300nm
最大可做 7cm*7cm(可內接4英寸氧化硅基底或滿轉)
本產品應密封保存于干燥環(huán)境中,且溫度低于35℃。嚴禁與易揮發(fā)物質和污染源接觸。遠離火源。
備注:A級單層覆蓋率大于97% ,B級單層覆蓋率大于85%,少層石墨烯厚度在10 層以內,可提供定制服務
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