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西安瑞禧生物供應多種氮化硼系列,如單層、立方、六方、六角、菱方、多孔、纖鋅型、纖鋅礦型氮化硼,以及多種氮化硼納米、量子點、纖維、薄膜材料。
六方氮化硼(h-BN)是一種二維層狀寬帶隙絕緣材料,其結構與石墨烯類似,但帶隙高達~6 eV。它除了具有通常二維材料具有的特性外,如平面二維結構、表面具有原子級平整,不存在懸掛鍵和陷阱電荷等,h-BN還具有獨特且優異的力學、化學、熱穩定, 雙曲光學特性及聲子振動特性,因此在非線性光學領域、紫外激光器/探測器、近場光學/成像、以及保護層材料方面具有廣泛的應用。
此外,h-BN可作為介電層、隧穿層、保護材料與其它二維材料構成異質結,從而展現出各種新奇的性能,在光/電子器件方面應用。當前,雖已有晶圓級(4英寸)尺寸的h-BN單晶薄膜的生長案例,但在生長原理、技術、工藝、裝備等方面,均不夠成熟,尤其在大面積單晶薄膜的生長機制、調控方法、異質結構等方面。此外,h-BN作為新興聲子材料和非線性關系材料,在單光子發射、近場光學成像、雙曲透鏡等方面初見端倪,因此受到了學術界和工業界的雙重重視。
將廢氣中的二氧化碳氫化成增值分子可以減少溫室氣體排放,并減少對不可再生能源的依賴。達到該目標的催化途徑通常涉及高壓和低豐度過渡金屬催化劑。
某學者發現含缺陷的六方氮化硼(dh-BN)中產生的空位可以有效活化CO2分子進行氫化。
一種減少二氧化碳排放的新方法,通過一種由豐富元素產生的非均相催化劑,以化學方式還原廢氣二氧化碳并產生有價值的產品。
甲酸和甲醇的生產是將能源從太陽能和風能轉換為電能的有吸引力的方法。通過能量密集型的高能球磨步驟在h-BN中誘導缺陷。通過利用缺陷,實現了將二氧化碳還原為甲醇和甲酸的非均相催化劑。
通過空位促進了氫和CO2的共吸附,將其氫化為甲酸(HCOOH)和甲醇(CH3OH)。更重要的是,發現dh-BN在高于160°C的反應溫度和583 kPa的壓力下可催化甲酸的形成,而在較低的溫度(低至20°C)下觀察到甲醇的形成。
納米晶立方氮化硼
多晶立方氮化硼
寬帶隙立方氮化硼
鍍Ti立方氮化硼
釬焊立方氮化硼
棕色高韌性立方氮化硼
片狀立方氮化硼
多孔立方氮化硼
硅/立方氮化硼膜
細顆粒立方氮化硼單晶
粗顆粒立方氮化硼(CBN)單晶
摻雜立方氮化硼
氨基化修飾cBN立方氮化硼
羧基化修飾cBN立方氮化硼
硫基化修飾cBN立方氮化硼
羥基化修飾cBN立方氮化硼
生物素化修飾cBN立方氮化硼
葉酸功能化修飾cBN立方氮化硼
金屬鋁包覆立方氮化硼
Ti3SiC2結合立方氮化硼
氰酸酯樹脂偶聯納米立方氮化硼復合材料
金剛石-立方氮化硼復合材料
單晶硅-納米晶立方氮化硼薄膜
六方氮化硼多孔骨架
三維多孔六方氮化硼
高導熱絕緣填料六方氮化硼
六方氮化硼H-BN單晶
六方氮化硼納米片(h-BNNS)
六方氮化硼納米球
六方氮化硼納米粒
六方氮化硼納米管
六方氮化硼納米片(BNNS)
水溶性六方氮化硼納米片
六角方氮化硼納米球
六角方氮化硼納米粒
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